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脉冲激光沉积(PLD)
浏览: 发布日期:2017-08-14



简介:台湾Dual-Signal Tech脉冲激光沉积系统(PLD -18)
 
主要技术指标:
本底真空:9x10E-9 Torr
最高基片温度:1000 °C
基片可360 度旋转
靶材可公转和自转
 
 
 

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